99,9 % hochreine Aluminiumoxid-Keramiksubstrate für Halbleiter Hersteller

Produktdetails

99,9 % hochreine Aluminiumoxid-Keramiksubstrate für Halbleiter

Produktbeschreibung:

Aluminiumoxid (Al₂O₃), hohe Härte und Verschleißfestigkeit, geringe Erosion und hohe Temperaturbeständigkeit. Die kommerziell verfügbaren Güten reichen von 90 % bis 99,9 %, wobei die Härte mit der Reinheit steigt. Es wird unter anspruchsvollen Bedingungen eingesetzt, die höchste Festigkeit, hohe Betriebstemperaturen und eine ultrareine Zusammensetzung erfordern. Daher eignet es sich gut für die Halbleiterherstellung oder Kunden, die hohe Reinheit benötigen.

Unser Al2O3 ist in verschiedenen Größen und Stärken erhältlich. Dank eines großen und aktuellen Lagerbestands können wir Ihr Projekt schnell starten.

Unser Service:

Bitte kontaktieren Sie uns für eine individuelle Anpassung.

Spezifikation:

Abmessungen (L x B)	φ80mm
Dicke	1,5 mm
Wärmeleitfähigkeit	29W/mk
Dielektrizitätskonstante	9-10,5 (MHz)
Schüttdichte	3,9 g/cm³
Oberflächenrauheit	Ra:0,03–0,7 μm

Unternehmensvorteile:

Huaqing wurde 2004 mit einer Gesamtinvestition von 80 Millionen RMB und einem eingetragenen Kapital von 40 Millionen RMB gegründet. Huaqings AlN & Al₂O₃ Keramikprodukte haben im Vergleich zu den anderen Fabriken der Branche eine hohe Wärmeleitfähigkeit, eine niedrige Dielektrizitätskonstante, einen guten Verlustfaktor und hervorragende mechanische Eigenschaften. AlN & Al₂O₃ Keramik wird häufig in HELED, Optokommunikation, IGBT, Leistungsgeräten, TEC und anderen High-End-Anwendungen verwendet.

Werkstatt & Ausstattung:

Verpackung & Lieferung:

Lieferung durch UPS, DHL, Fedex usw.

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